  |
Елементи, в яких автор: "Huang, J. Yu"
Група по: Тип документу | Немає групування Перейти до: Стаття Число елементів: 1. СтаттяTang, W., Picraux, S. T., Huang, J. Yu, Gusak, A. M., Tu, K. N., Dayeh, S. A. (2013) Nucleation and Atomic Layer Reaction in Nickel Silicide for DefectEngineered Si Nanochannels. American Chemical Society. Nano Letters (№ 13). с. 2748-2753. |
